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描述 Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc.
日期 2006-01-05, 2008-01-14
來源 File:High-k.png
作者 en:User:Anoopm, traced by User:Stannered
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目前2008年1月14日 (一) 18:142008年1月14日 (一) 18:14版本的縮圖401 × 235​（8 KB）Stannered{{Information |Description=Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc. |Source=en:Image:High-k.png |Da

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